產品展示

聚焦離子束FIB

電子光學

NICol非浸沒式超高分辨率場發射掃描鏡筒,配有:
? 高亮度肖特基場發射電子搶,用于提供穩定的高分辨率分析電流

? 60度雙物鏡透鏡,支持傾斜的樣品

? 全自動加熱式光闌,可確保清潔和無接觸式更換光闌孔

? 連續電子束電流控制和優化的光闌角度

? 電子槍安裝和維護簡單-自動烘烤,自動啟動,無需機械合軸

? 雙物鏡透鏡,結合電磁透鏡和靜電透鏡

? 兩級掃描偏轉

? 雙物鏡透鏡,結合電磁透鏡和靜電透鏡

? 電子源壽命至少24個月

電子束分辨率

在好的工作距離下

? 30keV下 STEM 0.7nm

? 1keV 下 1.4nm 15keV下1nm

? 1keV下 電子束減速模式 1.2nm



聚焦離子束FIB

超高分辨成像并獲取全面的樣品信息:

創新的NICol電子鏡筒為Scios 2 DualBeam 系統的高分辨率成像和檢測功能奠定了基礎。無論是在S丁EM模式下以30 keV來獲取結構信息,還是在較低的能量下從樣品表面獲取無荷電信息,系統可在廣泛的工作條件下提供出色的納米級細節。系統獨特的鏡頭內Thermo Scientific Trinity?檢測技術可同時采集角度和能量選擇性SE和BSE圖像。無論是將樣品豎直或傾斜放置進行觀察,亦或者是觀察樣品截面,都可快速獲取詳細的納米級信息??蛇x配的透鏡下探測器和電子束減速模式可確??焖?、 輕松地同時采集所高信號,以顯示材料表面或截面中的較小特征。依托獨特的NICol鏡筒設計和全自動合軸功能,用戶可獲得快速、準確且可重復的結果。

幫助所有用戶提高生產力:

Scios 2 DualBeam系統可幫助所有經驗水平用戶更快、更輕松地獲得高質量、 可重復的結果。系統提供用戶向導,使新手用戶可以輕松、 快速地提高工作效率。此外,諸如 ”撤消” 和 ”重做” 之類的功能鼓勵用戶開展更多類型的實驗。

真實環境條件的樣品原位實驗

Scios 2 DualBeam系統專為材料科學中具有挑戰性的材料微觀表征需求而設計,配備了全集成化、極快速MEMS熱臺μHeater可在更接近真實環境的工作條件下進行樣品表征。110毫米樣品臺可傾斜至90°,優中心工作距離更大,確保了系統好的靈活性。 系統可選配低真空模式,可輕松兼容各種樣昂類型和數據采集。同時,系統結合了擴展的沉積和蝕刻功能、 優化的樣品靈活性和控制能力,成為通用的高性能FIB /SEM系統,所有這些都由賽默飛的專業應用和服務支持。

W-Mo-Cu樣品的三維重建,結合了 BSE (綠色-藍色)和EDS (桶色)三維數據,使用Scios 2 DualBeam系統、 AS&V4以及Avizo軟件生成。

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